当前位置:首页国外标准

ISO 14706-2014 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物

ISO 14706-2014 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物

ISO 14706-2014 标准详情

  • 标准号:ISO 14706-2014
  • 中文标题:表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
  • 英文标题:Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
  • 标准类别:国际标准化组织ISO
  • 发布日期:2014-07-25

内容简介

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic numbe

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,本网站所提供的电子文本仅供参考,请以正式出版物为准。仅供个人标准化学习,研究使用。如有侵权,请及时联系我们!

  • 标准质量:
  • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
    ② 仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。
    ③ 代购正版,联系:联系邮箱