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EN 62374-1-2010 半导体装置 - 第1部分:依赖于时间的电介质击穿( TDDB )试验间的金属层

EN 62374-1-2010 半导体装置 - 第1部分:依赖于时间的电介质击穿( TDDB )试验间的金属层

EN 62374-1-2010 标准详情

  • 标准号:EN 62374-1-2010
  • 中文标题:半导体装置 - 第1部分:依赖于时间的电介质击穿( TDDB )试验间的金属层
  • 英文标题:semiconductor devices -- part 1: time-dependent dielectric breakdown (tddb) test for inter-metal layers
  • 标准类别:欧盟标准EN
  • 发布日期:2010-11-19

内容简介

IEC 62374-1:2010 DESCRIBES A TEST METHOD, TEST STRUCTURE AND LIFETIME ESTIMATION METHOD OF THE TIME-DEPENDENT DIELECTRIC BREAKDOWN (TDDB) TEST FOR INTER-METAL LAYERS APPLIED IN SEMICONDUCTOR DEVICES.

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