IEC 62374-1-2010 半导体器件.第1部分:金属层之间的时间相关的介质击穿(TDDB)试验
IEC 62374-1-2010 标准详情
- 标准号：IEC 62374-1-2010
- 中文标题：半导体器件.第1部分:金属层之间的时间相关的介质击穿(TDDB)试验
- 英文标题：semiconductor devices part 1: time-dependent dielectric breakdown (tddb) test for inter-metal layers dispositifs semiconducteurs partie 1: essai de rupture di閘ectrique en fonction du temps (tddb) pour les couches interm閠alliques edition 1.0
- 标准类别：国际电工委员会标准
- 发布日期：2010-09-01
内容简介
This part of IEC 62374 describes a test method, test structure and lifetime estimation methodof the time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers applied insemiconductor devices.
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