DLA MIL-PRF-19500/740 (1)-2012 半导体器件,场效应辐射硬化(总剂量和单事件效应)四晶体管, n沟道和p沟道,硅类型2n7521u , 2n7522u , 2n7525和2n7526 , jantxvr和f和jansr和f
DLA MIL-PRF-19500/740 (1)-2012 标准详情
- 标准号:DLA MIL-PRF-19500/740 (1)-2012
- 中文标题:半导体器件,场效应辐射硬化(总剂量和单事件效应)四晶体管, n沟道和p沟道,硅类型2n7521u , 2n7522u , 2n7525和2n7526 , jantxvr和f和jansr和f
- 英文标题:semiconductor device, field effect radiation hardened (total dose and single event effects) quad transistor, n-channel and p-channel, silicon types 2n7521u, 2n7522u, 2n7525, and 2n7526, jantxvr and f and jansr and f
- 标准类别:美国国防部后勤局标准DLA
- 发布日期:2012-06-15
* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,本网站所提供的电子文本仅供参考,请以正式出版物为准。仅供个人标准化学习,研究使用。如有侵权,请及时联系我们!