ISO 17560-2002 标准详情
- 标准号：ISO 17560-2002
- 中文标题：表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深仿形方法
- 英文标题：Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth profiling of boron in silicon
- 标准类别：国际标准化组织标准ISO
- 发布日期：2002-07
ISO 17560-2002 表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深仿形方法
内容简介
ISO 17560:2002 SPECIFIES A SECONDARY-ION MASS SPECTROMETRIC METHOD USING MAGNETIC-SECTOR OR QUADRUPOLE MASS SPECTROMETERS FOR DEPTH PROFILING OF BORON IN SILICON, AND USING STYLUS PROFILOMETRY OR OPTICAL INTERFEROMETRY FOR DEPTH SCALE CALIBRATION. TH
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，本网站所提供的电子文本仅供参考，请以正式出版物为准。仅供个人标准化学习，研究使用。如有侵权，请及时联系我们！
- 标准质量：
- ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
② 仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。
③ 代购正版，联系：