当前位置:首页国外标准

ASTM F1049-2002 探测硅片表面浅蚀坑的标准试验方法

ASTM F1049-2002 探测硅片表面浅蚀坑的标准试验方法

ASTM F1049-2002 标准详情

  • 标准号:ASTM F1049-2002
  • 中文标题:探测硅片表面浅蚀坑的标准试验方法
  • 英文标题:standard practice for shallow etch pit detection on silicon wafers
  • 标准类别:美国材料与试验协会ASTM
  • 发布日期:2002

内容简介

This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 20031.1 This practice is used to detect shallow etch pits, which may be related to the level of metallic impurities near the surface of silicon epitaxial or polished wafers.1.2 This practice is

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,本网站所提供的电子文本仅供参考,请以正式出版物为准。仅供个人标准化学习,研究使用。如有侵权,请及时联系我们!

  • 标准质量:
  • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
    ② 仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。
    ③ 代购正版,联系:联系邮箱