IPC TM-650 2.4.22.2-1995 标准详情
- 标准号：IPC TM-650 2.4.22.2-1995
- 中文标题：衬底曲率:硅片与电介质沉积
- 英文标题：substrate curvature: silicon wafers with deposited dielectrics
- 标准类别：电子互联行业协会标准(美国印刷电路行业协会)
- 发布日期：1995-07-01
IPC TM-650 2.4.22.2-1995 衬底曲率:硅片与电介质沉积
内容简介
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