ASTM F847-2002 标准详情
- 标准号：ASTM F847-2002
- 中文标题：用X射线技术测量单晶硅片平面上结晶方向的标准试验方法
- 英文标题：standard test methods for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon wafers by x-ray techniques
- 标准类别：美国材料与试验协会ASTM
- 发布日期：2002
ASTM F847-2002 用X射线技术测量单晶硅片平面上结晶方向的标准试验方法
内容简介
This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 20031.1 These test methods cover the determination of , the angular deviation between the crystallographic orientation of the direction perpendicular to the plane of a fiducial flat on a circul
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