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ISO 17335-2004 表面化学分析 硅片工作标准物质表面要素采集的化学方法及用全反射x射线荧光(txrf)分光光度法的测定

ISO 17335-2004 表面化学分析 硅片工作标准物质表面要素采集的化学方法及用全反射x射线荧光(txrf)分光光度法的测定

ISO 17335-2004 标准详情

  • 标准号:ISO 17335-2004
  • 中文标题:表面化学分析 硅片工作标准物质表面要素采集的化学方法及用全反射x射线荧光(txrf)分光光度法的测定
  • 英文标题:surface chemical analysis - chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working-reference materials and their determination by total-reflection x-ray fluorescence spectroscopy txrf
  • 标准类别:国际标准化组织标准ISO
  • 发布日期:

内容简介

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