ISO 14701-2011 标准详情
- 标准号：ISO 14701-2011
- 中文标题：表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
- 英文标题：surface chemical analysis -- x-ray photoelectron spectroscopy -- measurement of silicon oxide thickness
- 标准类别：国际标准化组织标准ISO
- 发布日期：2011-08-02
ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
内容简介
ISO 14701:2011 specifies several methods for measuring the oxide thickness at the surfaces of (100) and (111) silicon wafers as an equivalent thickness of silicon dioxide when measured using X-ray photoelectron spectroscopy. It is only applicable to
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