ASTM F2113-2001(2011) 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
ASTM F2113-2001(2011) 标准详情
- 标准号：ASTM F2113-2001(2011)
- 中文标题：薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
- 英文标题：Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
- 标准类别：美国材料与试验协会ASTM
- 发布日期：2001
内容简介
1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard
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