NEN ISO 14701-2011 标准详情
- 标准号：NEN ISO 14701-2011
- 中文标题：
- 英文标题：Surface Chemical Analysis - X-Ray Photoelectron Spectroscopy - Measurement Of Silicon Oxide Thickness
- 标准类别：荷兰国家标准NEN
- 发布日期：
NEN ISO 14701-2011
内容简介
Defines several methods for measuring the oxide thickness at the surfaces of (100) and (111) silicon wafers as an equivalent thickness of silicon dioxide when measured using X-ray photoelectron spectroscopy.
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