ISO 23812-2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
ISO 23812-2009 标准详情
- 标准号：ISO 23812-2009
- 中文标题：表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
- 英文标题：Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
- 标准类别：国际标准化组织标准ISO
- 发布日期：2009-04
内容简介
ISO 23812:2009 specifies a procedure for calibrating the depth scale in a shallow region, less than 50 nm deep, in SIMS depth profiling of silicon, using multiple delta-layer reference materials.It is not applicable to the surface-transient region wh
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