GB/T 44928-2024 微电子学微光刻技术术语
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GB/T 44928-2024
标准推荐性内容简介
国家标准《微电子学微光刻技术术语》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC4(全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会)执行,主管部门为国家标准委。本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术,先进光刻技术,微光刻图形化和图形数据处理技术,微光刻感光材料、铬板与基板材料,光掩模技术,光刻工艺(曝光、刻蚀与微纳米加工)技术,电子束掩模制造与直写技术,光刻及掩模质量参数测量和评定,掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。 本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。
起草单位
中国科学院微电子研究所、
起草人
陈宝钦、 王香、 李新涛、 冯伯儒、 薛彩荣、 李和委、王力玉、薛丽君、郝美玲、
相近标准
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